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刻画器
探索每个因子的响应横截面
“预测刻画器”（简称为“刻画器”）可为您提供关于模型的大量丰富信息。使用“预测刻画器”可以：
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查看在您更改各个因子的设置时，您的预测模型如何变化。
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为一个或多个响应设置意愿目标，找出因子的最佳设置。
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测量模型对于因子更改的灵敏度，灵敏度基于您的预测模型。
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采用与模型无关的方式评估因子相对于模型预测的重要性。
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基于针对因子和响应的指定分布模拟响应分布，并控制刻画器外观的各个方面。
具有模拟器和重要性颜色的四响应刻画器
目录 
预测刻画器的示例
启动“预测刻画器”平台
“预测刻画器”选项
意愿刻画和优化
意愿函数的构造
如何使用意愿函数
意愿刻画
定制意愿函数
评估变量重要性
Bagging
预测刻画器的其他示例
多重响应的意愿刻画示例
预测刻画器中噪声因子的示例
一个响应的变量重要性的示例
多重响应的变量重要性的示例
Bagging 改进预测的示例
指示预测准确度的 Bagging 示例
预测刻画器的统计详细信息
评估变量重要性
误差传播直条