单项详细报表显示了 Semiconductor Capability.jmp 样本数据表中的 PNP1 的“单项详细报表”,如示例:包含正态变量的“过程能力”平台中所述。
单项详细报表
使用正态分布拟合过程时,“过程汇总”包括稳定性比,这是一个用于衡量过程稳定性的测度。稳定性比定义如下:
过程 1 的“单项详细报表”显示了 Process Measurements.jmp 样本数据表中的过程 1 的“单项详细报表”,如示例:包含非正态变量的“过程能力”平台中所述。
过程 1 的“单项详细报表”
非正态分布的能力指标:百分位数和 Z 得分方法中对用于正态、gamma、Johnson、对数正态和 Weibull 分布的参数和概率密度函数进行了说明。 以上这些也是“分布”平台中使用的参数化,只不过“过程能力”不支持阈值参数。请参见《基本分析》手册中的分布
(在将“非参数”选作分布时可用。) 显示或隐藏“非参数密度”报表,其中提供拟合非参数分布时使用的核带宽。核带宽通过以下公式得出,其中,n 是观测数,S 是未校正样本标准差:
比较带有正态概率图的分布显示 Process Measurements.jmp 样本数据表中过程 1 的“比较分布”报表。“已选定”分布(即“对数正态”)正与“正态”分布作比较。“比较详细信息”报表显示这两种分布的拟合统计量。
比较带有正态概率图的分布
对于每个分布,提供 AICc、BIC 和 -2对数似然值。请参见《拟合线性模型》手册中的似然、AICc 和 BIC。(不可用于非参数拟合。)
显示或隐藏为您拟合的每个参数分布显示概率图的报表。请参见比较带有正态概率图的分布。 观测的水平坐标是其调整过中点的 Kaplan-Meier 估计值。观测的垂直坐标是观测秩的拟合分布的分位数值。对于正态分布,总 sigma 估计值用于确定拟合分布。
若可能,通过将参数分布 F 表示为位置尺度系列来计算区间,以便 F(y) = G(z),其中,z = (y - μ)/σ。使用 delta 方法来计算拟合位置尺度分量在某点处的近似标准误差。使用标准误差估计值,将为每个点计算 z 的 Wald 置信区间。累积分布函数 F 的置信区间通过使用 G 变换 Wald 区间得到。请注意,在某些情况下,需要特别调整以便在过程测量值区间端点附近提供适当区间。