设计
点击“制作设计”后，“设计”和“量度”分级显示项随即显示。对于要求大量计算的设计，将显示一个进度栏。
“设计”分级显示项显示您已经构造的设计。第一列列出“试验顺序”。您可能需要使用滚动条查看所有试验。其余列显示每次试验的因子设置。
优化
选择“优化”可减小使用“覆盖阵列”平台构造的设计规模，或减小使用“加载设计”红色小三角选项加载的设计的规模。“优化”不适用于使用“覆盖阵列”平台构造的已知为最优的设计。特别是，通过该平台为两水平因子构造的所有强度为 2 的无约束设计都是最优的。此外，为 t+1 个因子构造的所有强度为 t 的无约束设计对于任何 t 而言都是最优的。
有关算法的详细信息，请参见用于优化的算法。
注意：“优化”需要耗费时间，但可以反复运行以生成逐渐改善的设计。
使用最多迭代次数选项可指定优化设计时要使用的最多迭代次数。
无法满足的约束
若有一组约束妨碍构造表示出所有必需因子水平的覆盖阵列，则认为这组约束无法满足。
无法满足的约束的示例
考虑针对三个因子（每个因子三个水平）的强度为 2 的设计。
1. 选择实验设计 > 特殊目的 > 覆盖阵列。
2. 在添加因子数旁边键入 3。
3. 从添加因子菜单中，选择 3 水平。
4. 点击继续。
5. 选择使用不被允许的组合过滤器。
6. 从添加过滤器因子列表中，选择全部三个因子并点击添加按钮。
7. 按 Ctrl 键并选择以下水平：
‒ 为 X1 选择 L1。
‒ 为 X2 选择 L1、L2 和 L3。
‒ 为 X3 选择 L3。
图 20.20 完成的“限制因子水平组合”面板
注意：设置下两步中的“随机种子”将重现本例中显示的确切结果。自行构造设计时，这些步骤不是必需的。
8. 点击“覆盖阵列”红色小三角并选择设置随机种子。
9. 输入 12345 并点击确定。
10. 点击制作设计。
图 20.21 “设计”和“量度”分级显示项
“设计”分级显示项下的注释指出由于存在约束导致一次试验包含缺失设置。该试验是第 9 次试验。要确保覆盖阵列具有强度 2，需要 X1 设置为 L1 且 X3 设置为 L3 的组合。但是对于这些设置，这些约束阻止了 X2 的所有设置。