该帮助的版本不再更新,请参见https://www.jmp.com/support/help/zh-cn/15.2 获取最新的版本.


使用刻画器等高线刻画器曲面刻画器可进一步了解拟合模型。要选择刻画器选项,可点击“对数线性方差拟合”旁边的红色小三角菜单,然后选择刻画器菜单下的一个选项。
1.
选择帮助 > 样本数据库,然后打开 InjectionMolding.jmp
2.
选择分析 > 拟合模型
3.
点击运行
7.
点击确定
图 10.7 具有预测区间的“匹配目标值”和“最小化方差”的刻画器
Y 是建模的响应且您希望知道 xn 处新观测值的预测区间,则:
s2|xnxn 处单个预测值的方差
s2Y|xnxn 处 Y 的分布的方差
因为单个预测值的方差包含 Y 的分布的方差,可以看到 Y 的方差变化的效应。不仅单值预测区间变宽,而且它们可能随着方差效应的变化而更改形状。