要使用“添加空间测度”选项，您的数据必须被堆叠并且包含两个对应于空间坐标的特性列。某些空间测度使用 Hough 变换构造。请参见 White et al. (2008) 和 Ballard (1981)。请参见使用“空间测度”进行晶片次品分类的示例。
若您在启动窗口中执行以下操作，则会显示“选择空间成分”窗口：
• 选择“数据被堆叠”数据结构
• 指定对应于空间坐标的两列作为“特性 ID”
• 指定“对象 ID”
• 选择“添加空间测度”
在“选择空间成分”窗口中，您选择并权衡用于聚类分析的空间成分。这些成分用于构造聚类分析中使用的变量。随即打开一个新表，其中每个对象对应一行。该表包含每个对象的计算空间成分。
变量
聚类分析中构造并使用的变量类型。使用空间成分和响应 Y 构造变量。
特性
对于每个对象，针对每个位置（由两个“特性 ID”变量定义）计算的 Y 变量的值。
角度，饼图
反映楔形或半球形的变量。
半径，圆圈
反映圆形的变量。
条纹角度
反映具有相同角度的条纹的变量。
条纹位置
反映具有相同空间位置的条纹的变量。
曝光区中的位置
基于曝光区中裸片位置的变量。“曝光区中的位置”变量表示为 ShotPos[vShotSize, hShotSize]，其中 vShotSize 和 hShotSize 分别为定义的垂直和水平曝光区大小。
曝光区
标识对象所在矩形的变量，您可以指定对象在矩形中的水平位置和垂直位置数。术语曝光区用于半导体晶片数据中，以标识晶片上哪些裸片在一起成像。
输入“曝光区水平大小”和“曝光区垂直大小”的值。将水平曝光区大小指定为 4，垂直曝光区大小指定为 5，这样指示曝光区中最多有 20 个裸片。创建的总标识符数如下所示：
floor[(hSize+hShotSize-1)/hShotSize]* floor[(vSize+vShotSize-1)/vShotSize]
其中 hSize 和 vSize 分别是水平和垂直最大位置数，hShotSize = 曝光区水平大小，vShotSize = 曝光区垂直大小。
注意：曝光区变量表示为 Shot[vert, horiz]，其中 vert 和 horiz 分别表示垂直和水平裸片位置。
数目
构造的给定类型的总变量数。
权重
用于确定聚类的给定类型的变量的重要性测度。
当您在“选择空间成分”窗口中点击“确定”时，会出现两个窗口。
当您使用堆叠数据和两个特性 ID 执行分析时，“聚类汇总”报表显示 Y 变量的空间映射。每个图都是一个二维图，显示由“特性 ID”变量定义的每个位置的聚类均值。该图使用具有分位数尺度的“由蓝经灰到红”颜色梯度。使用分位数尺度可减轻离群值的影响。
空间测度的数据表为每个唯一对象 ID 提供一行。使用“由蓝经灰到红”默认颜色梯度显示列以表示 Y 变量。该表包含以下列：
对象
显示每个空间位置（由两个“特性 ID”变量定义）处的 Y 变量的热图的表达式列。
Hough
显示每个对象的 Hough 空间的热图的表达式列。请参见 White et al. (2008)。
空间测度
显示每个对象的计算值的每个空间测度对应的列。单元格按值着色。