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刻画器介绍
直观演示响应曲面和优化过程
刻画是一种方法，它可以通过观察一次仅更改一两个因子时会发生的变化来直观演示响应曲面。实际上，刻画图就是一个横截面视图。JMP 中的交互式刻画器拓宽了探索机会的空间。在用数据拟合方程的过程中，拟合只是第一步。人们还希望解释拟合、理解拟合响应曲面以及发现优化响应的因子值。
刻画器示例
目录 
“刻画器”概述
刻画介绍
JMP 中的刻画器功能
“刻画器”启动窗口
拟合组
解释刻画
“刻画器”平台选项
常见刻画器主题
线性约束
噪声因子