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刻画器指南
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刻画器介绍
•
刻画介绍
• JMP 中的刻画器功能
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JMP 中的刻画器功能
JMP 中提供了若干刻画器工具,可通过若干拟合平台和“图形”下的主菜单来访问这些工具。这些工具用于刻画数据列公式。
刻画器功能汇总
说明
功能
刻画器(或预测刻画器)
显示各因子的垂直切片,令其他因子保持当前值
意愿,优化,模拟器,误差传播
等高线刻画器
水平切片,可同时为两个因子显示等高线
模拟器
曲面刻画器
同时为两个因子显示三维响应图,或同时为三个因子显示等高线曲面图
曲面可视化
混料刻画器
混料因子的等高线刻画器
三元图和等高线
定制刻画器
非图形化刻画器和数值优化器
常规优化,模拟器
Excel 刻画器
直观演示存储在 Excel 工作表中的模型(或公式)。
使用 Excel 模型刻画
JMP 刻画器的提供位置
中刻画器的可用性。“定制刻画器”仅可通过“图形”菜单来使用。(在“模型比较”中不能使用 “定制刻画器” 。)
JMP 刻画器的提供位置
位置
刻画器
等高线刻画器
曲面刻画器
混料刻画器
“图形”菜单(作为一个平台)
是
是
是
是
拟合模型:最小二乘法
是
是
是
是
拟合模型:广义回归
是
拟合模型:混合模型
是
是
是
是
拟合模型:Logistic
是
拟合模型:对数线性方差
是
是
是
拟合模型:广义线性模型
是
是
是
拟合模型:偏最小二乘
是
神经
是
是
是
模型比较
是
是
是
是
非线性:因子和响应
是
是
是
非线性:参数和误差平方和
是
是
是
非线性:拟合曲线
是
高斯过程
是
是
是
偏最小二乘
是
寿命分布
是
以 X 拟合寿命
是
是
再现分析
是
选择
是
定制设计预测方差
是
是
注意:
在本指南中,我们使用以下可互换的术语:
•
因子、输入变量、
X
列、自变量、设置、项
•
响应、输出变量、
Y
列、因变量、结果
刻画器分为几种。有时,我们将“刻画器”称为“预测刻画器”以与其他刻画器区分开来。