发布日期: 04/13/2021
刻画器
探索每个因子的响应横截面
“预测刻画器”可为您提供关于模型的大量丰富信息。使用“预测刻画器”可以：
• 查看在您更改各个因子的设置时，您的预测模型如何变化。
• 为一个或多个响应设置意愿目标，找出因子的最佳设置。
• 测量模型对于因子更改的灵敏度，灵敏度基于您的预测模型。
• 采用与模型无关的方式评估因子相对于模型预测的重要性。
• 基于针对因子和响应的指定分布模拟响应分布，并控制刻画器外观的各个方面。
图 3.1 具有模拟器和重要性颜色的四响应“预测刻画器”
目录
预测刻画器的示例
启动“预测刻画器”平台
“预测刻画器”选项
意愿刻画和优化
意愿函数的构造
如何使用意愿函数
意愿刻画
定制意愿函数
评估变量重要性
Bagging
预测刻画器的其他示例
多重响应的意愿刻画示例
预测刻画器中噪声因子的示例
一个响应的变量重要性的示例
多重响应的变量重要性的示例
Bagging 改进预测的示例
指示预测准确度的 Bagging 示例
预测刻画器的统计详细信息
评估变量重要性
误差传播直条
需要更多信息？有问题？从 JMP 用户社区得到解答 (community.jmp.com).