考虑晶片制造过程，目标值为每个晶片 4 个或更少的缺陷。您想验证新过程是否满足目标要求。在 0.05 显著性水平下，要使功率为 90%，您应检验多少晶片来检测差值 1（与每个晶片的目标缺陷计数相比）？
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1.
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选择实验设计 > 设计诊断 > 样本大小与功效。
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2.
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点击每单位计数。
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1.
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保留 Alpha 为 0.05（若新过程和目标一样好但检验失败的机会）。
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2.
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输入 4 作为每单位的基准计数，指示目标是每个晶片有 4 个缺陷。
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3.
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输入 1 作为待检差值。
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4.
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5.
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点击继续。
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图 17.14 “每单位计数”计算器
