在该示例中,您有晶片的缺陷数据。X 裸片和 Y 裸片列给出裸片的位置,缺陷数则给出每个位置的缺陷数。因为裸片缺陷通常按一定模式发生,您可以使用聚类分析将晶片划分到可能具有同类缺陷模式的组。完成后,您要将每个聚类的缺陷模式可视化。
1. 选择帮助 > 样本数据库,然后打开 Wafer Stacked.jmp。
2. 运行“缺陷数”的空间聚类脚本。
该脚本拟合一个包含空间测度(角,半径,条纹角度,条纹距离)的层次聚类分析模型。请参见《多元方法》中的空间测度。
3. 点击“层次聚类”红色小三角菜单并选择保存聚类。
构造七个聚类。将聚类编号保存到 Wafer Stacked.jmp 数据表中名为聚类的列中。
4. 返回到 Wafer Stacked.jmp。
5. 选择图形 > 图形生成器。
6. 选择 X 裸片并将它拖至 X 区域。
7. 选择 Y 裸片并将它拖至 Y 区域。
8. 取消选择“平滑线”元素 并点击“点图”元素 。
9. 选择聚类并将它拖至重叠区域。
因为有七个聚类,因此有七个图。
10. 选择缺陷数并将它拖至颜色区域。
11. 点击“热图”元素 。
按每个聚类的缺陷数均值着色的位置
按缺陷数均值为热图着色。
12. 右击图例中的颜色条,然后选择梯度。
13. 为“尺度类型”选择对数。
该尺度对于缺陷数的对数是线性的。因为缺陷数的分布偏斜很大,使用“对数”尺度可突出显示变异模式,但是丧失轻松比较原始尺度量值的能力。
14. 点击确定。
15. (可选)点击完成。
晶片聚类的热图
这些图显示缺陷的各种模式。请注意这些相同的图也显示在“层次聚类”报表的“聚类汇总”分级显示项中。