刻画器指南

刻画器介绍

直观演示响应曲面和优化过程

刻画是一种方法，它可以通过观察一次仅更改一两个因子时会发生的变化来直观演示响应曲面。实际上，刻画图就是一个横截面视图。使用 JMP 中的交互式刻画器探索输入中的更改如何影响响应。在用方程拟合数据的过程中，拟合只是第一步。人们还希望解释拟合、理解拟合响应曲面以及发现优化响应的因子值。

图 2.1 刻画器示例 

目录

刻画介绍

JMP 中的刻画器功能

“刻画器”启动窗口

“拟合组”报表中的刻画器

解释“预测刻画器”

横截面刻画器

设置或锁定因子值

“刻画器”平台选项

常见刻画器主题

线性约束

噪声因子