JMP 中提供若干刻画器，每个刻画器都有一组不同的功能。可以从大多数拟合平台和“图形”下的主菜单访问这些刻画器。从“图形”菜单启动刻画器时，必须指定公式列。
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说明 |
功能 |
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预测刻画器 |
显示各因子的垂直切片，令其他因子保持当前值 |
意愿，优化，模拟器，误差传播 |
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等高线刻画器 |
水平切片，可同时为两个因子显示等高线 |
模拟器 |
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曲面刻画器 |
同时为两个因子显示三维响应图，或同时为三个因子显示等高线曲面图 |
曲面可视化 |
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混料刻画器 |
混料因子的等高线刻画器 |
三元图和等高线 |
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定制刻画器 |
非图形化刻画器和数值优化器 |
常规优化，模拟器 |
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Excel 刻画器 |
直观演示存储在 Excel 工作表中的模型（或公式）。 |
使用 Excel 模型刻画 |
表 2.2 显示了刻画器的可用性。 “定制刻画器”仅可通过“图形”菜单来使用。（在“模型比较”中不能使用“定制刻画器”。）
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位置 |
刻画器 |
等高线刻画器 |
曲面刻画器 |
混料刻画器 |
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“图形”菜单（作为一个平台） |
是 |
是 |
是 |
是 |
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拟合模型: 最小二乘法 |
是 |
是 |
是 |
是 |
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拟合模型: 广义回归 |
是 |
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拟合模型: 混合模型 |
是 |
是 |
是 |
是 |
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拟合模型: Logistic |
是 |
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拟合模型: 对数线性方差 |
是 |
是 |
是 |
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拟合模型: 广义线性模型 |
是 |
是 |
是 |
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拟合模型: 偏最小二乘 |
是 |
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神经 |
是 |
是 |
是 |
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分割 |
是 |
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Bootstrap 森林法 |
是 |
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提升树 |
是 |
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支持向量机 |
是 |
是 |
是 |
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模型筛选 |
是 |
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模型比较 |
是 |
是 |
是 |
是 |
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非线性: 因子和响应 |
是 |
是 |
是 |
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非线性: 参数和误差平方和 |
是 |
是 |
是 |
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非线性: 拟合曲线 |
是 |
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函数数据分析器 |
是 |
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高斯过程 |
是 |
是 |
是 |
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判别 |
是 |
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偏最小二乘 |
是 |
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结构化方程模型 |
是 |
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寿命分布 |
是 |
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以 X 拟合寿命 |
是 |
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是 |
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复发分析 |
是 |
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选择 |
是 |
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定制设计预测方差 |
是 |
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是 |
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