质量和过程方法
《质量和过程方法》介绍 JMP 中提供的一些方法和工具，用来帮助您评价和改进质量和过程性能：
• 控制图对关键变量提供反馈，并显示过程何时受统计控制或何时不受统计控制。“控制图生成器”介绍使用称为“控制图生成器”的交互式控制图平台创建控制图的 JMP 方法。
• “测量系统分析”平台评估系统的精确性、一致性和偏倚。对某个过程开展研究之前，您需要确保能够精准地测量该过程。若变异源自测量本身，您将无法可靠地了解该过程。使用该分析可查明系统当前的性能。请参见“测量系统分析”。
• “1 型量具”平台评估测量系统或量具是否可重复。具体而言，该分析确定测量系统是否能够重复测量部件并获得接近已知参考标准的测量值。请参见“1 型量具分析”。
• “变异性/计数量具图”平台创建变异性或计数量具图。变异性图分析连续测量值并展示系统当前的性能。计数图分析分类测量值并为您显示各响应之间的一致性测量。您还可以执行量具研究，查看数据中的变异测量。请参见“变异性量具图”和“计数量具图”。
• “过程筛选”平台支持您探索随时间变化的大量过程。该平台计算控制图、过程稳定性和过程能力指标，并检测较大的过程偏移。请参见“过程筛选”。
• “过程能力”平台测量过程是否能够满足规格限要求。您可以将按过程中心化和变异性汇总的过程性能与规格限相比较。平台基于长期和短期变异计算能力指标。该分析可帮助标识相对于规格的变异，使合格值持续增加。请参见“过程能力”。
• CUSUM 图支持您基于累积和作出决策。这些图可检测过程中的较小偏移。请参见“CUSUM 控制图”。
• 指数加权移动平均 (EWMA) 图还可用于检测过程中的较小偏移。请参见“EWMA 控制图”。
• 若您需要同时监控多个过程特征，请参见“多元控制图”。
• “模型驱动的多元控制图”(MDMVCC) 平台支持您基于主成分或偏最小二乘模型生成控制图。请参见“模型驱动的多元控制图”。
• “传统控制图”介绍了 JMP 中较早的控制图平台。我们鼓励您使用“控制图生成器”平台以及新的 CUSUM 和 EWMA 控制图平台，而不是使用较早的控制图平台。
• “Pareto 图”平台显示在与质量相关的过程或操作中问题出现的频率。Pareto 图可通过突出显示问题的频率和严重性，帮助您决定要首先解决的问题。请参见“Pareto 图”。
• “关系图”平台构造因果图，可通过对问题根源加以整理执行头脑风暴，或作为初步分析以标识变量，为进一步实验做准备。一旦完成，即可执行进一步分析以找出问题的根本原因。请参见“因果图”。
• “管理规格限”实用工具支持您同时快速添加或编辑若干列的许多规格限。请参见“管理限值”。
• 使用“操作特征 (OC) 曲线”实用工具，您可以为控制图和计数验收抽样计划构造 OC 曲线。请参见“操作特征曲线”。