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刻画介绍
使用一个输入因子 X 和一个输出因子 Y 很容易直观演示响应曲面。因子和响应数量越多就越难演示。JMP 中的刻画器可提供任意响应曲面的若干高度交互式横截面视图。
意愿刻画和优化功能有助于发现适合的因子设置并生成满意的响应。多数刻画器还支持多线程处理以加快计算。在因子存在变异而您需要稳健和高质量的响应时，可利用模拟和缺陷刻画功能。
 
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JMP 中的刻画器功能
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“刻画器”启动窗口
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拟合组