刻画器

探索每个因子的响应横截面

“预测刻画器”可为您提供关于模型的大量丰富信息。使用“预测刻画器”可以：

• 查看在您更改各个因子的设置时，您的预测模型如何变化。

• 为一个或多个响应设置意愿目标，找出因子的最佳设置。

• 测量模型对于因子更改的灵敏度，灵敏度基于您的预测模型。

• 采用与模型无关的方式评估因子相对于模型预测的重要性。

• 基于针对因子和响应的指定分布模拟响应分布，并控制刻画器外观的各个方面。

图 3.1 具有模拟器和重要性颜色的四响应“预测刻画器” 

目录

“预测刻画器”概述

预测刻画器的示例

启动“预测刻画器”平台

“预测刻画器”选项

“最大化选项”窗口

意愿刻画和优化

意愿函数的构造

如何使用意愿函数

意愿刻画

定制意愿函数

评估变量重要性

Bagging

设计空间刻画器

“设计空间刻画器”报表

“设计空间刻画器”选项

预测刻画器的其他示例

多重响应的“意愿刻画器”示例

预测刻画器中噪声因子的示例

一个响应的变量重要性的示例

多重响应的变量重要性的示例

Bagging 改进预测的示例

指示预测准确度的 Bagging 示例

使用 Bagging 的置信区间示例

使用“标准误差预测公式”列的置信区间示例

“设计空间刻画器”示例

“预测刻画器”的统计详细信息

评估变量重要性的统计详细信息

误差传播直条的统计详细信息

外推控制量度的统计详细信息

需要更多信息？有问题？从 JMP 用户社区得到解答 (community.jmp.com).